產(chǎn)品簡(jiǎn)介：高真空高溫爐系統(tǒng)適用于各類真空熔煉、真空退火、淬火以及真空釬焊等設(shè)備，設(shè)備從100℃-2000℃廣泛適用于真空冶金新材料的科研與小批量制備。
| 產(chǎn)品型號(hào) | GSL-QHRL-X真空釬焊爐 | ||
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)，水溫小于25℃，水壓0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注純凈水或者去離子水）； 2、電：AC380V 50Hz，功率根據(jù)實(shí)際情況配置，波動(dòng)范圍：小于±6％，必須有良好接地（對(duì)地電阻小于2Ω）； 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備氮/氬氣氣瓶（自帶Ø10mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、場(chǎng)地面積：設(shè)備尺寸2000mm×2000mm，承重1000kg以上 5、通風(fēng)裝置：需要（外排廢氣管道）； | ||
| 技術(shù)參數(shù) | 1、極限真空度：≤6.67x10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后)； 2、系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S； 3、系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂?，再開(kāi)始抽氣，45分鐘可達(dá)到6.6x10-4Pa； | ||
| 基本參數(shù) | 1、真空室可立式或臥式； 2、真空室直徑尺寸：φ200-φ2000mm（根據(jù)客戶要求設(shè)計(jì)加工）； 3、電阻加熱：?jiǎn)螀^(qū)加熱、雙區(qū)加熱、三區(qū)以及多區(qū)加熱； 電阻加熱材料：高溫鎢、鉬、鉭及石墨；一般溫度采用復(fù)合材料，鐵鉻鋁、鎳鉻等； 4、保溫方式及材料: 多層金屬屏保溫； 石墨筒或碳?xì)直兀?/span> 水冷屏保溫； 5、溫度：100℃-2300℃ | ||
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 整機(jī)尺寸：1800mm×1200mm×2000mm； | ||
| 標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 電源控制系統(tǒng) | 1套 |
| 2 | 真空獲得機(jī)組 | 1套 | |
| 3 | 真空測(cè)量 | 1套 | |
