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日本Shinkuu磁控離子濺射儀選型指南

時間:2025/7/16閱讀:41
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磁控離子濺射儀是電子顯微鏡(SEM/TEM)樣品制備、半導體檢測及材料研究的關鍵設備。日本Shinkuu(真空)系列濺射儀憑借高精度鍍膜、多樣化靶材支持以及不同型號適配各類應用場景,成為科研和工業(yè)領域的優(yōu)選。以下為選型關鍵要點及推薦型號:

一、選型核心考量因素

  1. 觀察倍率需求

    • 低倍率(1,000~10,000倍):Au靶(金)或Au-Pd(金鈀)鍍膜,適用于常規(guī)SEM觀察。

    • 中高倍率(10,000~100,000倍):Pt(鉑)或Pt-Pd(鉑鈀)鍍膜,顆粒更細,成像更清晰。

    • 超高倍率(100,000倍以上):W(鎢)靶,粒徑極細,適用于納米級分辨率觀察。

  2. 樣品類型與尺寸

    • 小型樣品(SEM/TEM):MSP-mini或MSP-1S,適用于φ30mm以下樣品。

    • 4英寸晶圓或大尺寸樣品:MSP-20MT(4英寸)或MSP-200in/MSP-300in(8/12英寸晶圓)。

    • 復雜結構樣品(如生物樣本):需考慮Os(鋨)鍍膜機,因其優(yōu)異的環(huán)繞性。

  3. 自動化與操作便捷性

    • 一鍵式操作:MSP-mini、MSP-1S適合快速鍍膜需求。

    • 全自動功能:MSP-20UM(可編程自動鍍膜)、MSP-40T(渦輪泵高真空自動沉積)。

  4. 真空系統(tǒng)與冷卻方式

    • 基礎實驗室:內置旋轉泵(MSP-1S)。

    • 高真空需求:渦輪分子泵(MSP-40T)。

    • 防止樣品熱損傷:風冷磁控靶(MSP-20TK)。

二、推薦型號及適用場景

型號關鍵特點適用場景推薦靶材
MSP-mini超小型設計,一鍵操作,低成本運行光學顯微鏡(Ag)、臺式SEM預處理Au(標準)、Ag(可選)35
MSP-1S內置旋轉泵,緊湊型,適合貴金屬鍍膜SEM樣品(50,000倍以下)Pt、Au、Au-Pd2
MSP-20UM可調參數,傾斜旋轉樣品臺,全自動鍍膜復雜形狀樣品、高精度SEM觀察Pt、Pt-Pd、W1
MSP-20TK專為鎢濺射優(yōu)化,支持超高分辨率SEM(100,000倍以上)納米材料、高分辨電鏡樣品W(鎢)1
MSP-200in8英寸晶圓鍍膜,提高檢測效率半導體制造、大面積樣品Au、Pt、ITO1
MSP-300in12英寸晶圓鍍膜,工業(yè)級應用集成電路(IC)檢測多種金屬靶材1
MSP-40T高性能實驗室沉積,支持多種金屬(Ti、Al、ITO等),渦輪泵高真前沿研究、高純度薄膜多金屬可選4

三、選型總結

  • 實驗室常規(guī)SEM樣品:MSP-1S(性價比高)或MSP-20UM(功能全面)。

  • 超高分辨率觀察:MSP-20TK(鎢靶)或MSP-40T(多金屬支持)。

  • 半導體/晶圓鍍膜:MSP-200in(8英寸)或MSP-300in(12英寸)。

  • 快速簡易操作:MSP-mini(超小型,一鍵鍍膜)。


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