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蝕刻液無(wú)損分離再生機(jī)技術(shù)特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)比較

2007年12月17日 09:34:30人氣:2331來(lái)源:長(zhǎng)沙綠銥環(huán)??萍加邢薰?/span>

技術(shù)特點(diǎn):

一、技術(shù)原理

  本技術(shù)的特點(diǎn)是對(duì)廢蝕刻液進(jìn)行無(wú)損選擇性分離,使其它對(duì)蝕刻有用的部份全部得以保留并回用于蝕刻液中;這種選擇性無(wú)損分離技術(shù)IEM-EC( Ion Exchange Membrane——Electro-winning Coupling),是膜分離技術(shù)和電沉積工藝結(jié)合的產(chǎn)物,它將待處理液體(廢蝕刻液)置于一個(gè)受膜保護(hù)的區(qū)域內(nèi),保護(hù)了廢蝕刻液中的化學(xué)物質(zhì)不被破壞,同時(shí)其中的銅離子以金屬銅的形態(tài)方便回收,因而實(shí)現(xiàn)了銅和其它化學(xué)物質(zhì)的選擇性無(wú)損分離;且在實(shí)現(xiàn)銅選擇性分離回收的同時(shí),實(shí)現(xiàn)了其它對(duì)蝕刻有用的組份的全部回用。
二、工藝流程圖
三、技術(shù)*性

  1、我公司產(chǎn)品采用IEM-EC無(wú)損分離技術(shù)對(duì)廢蝕刻液進(jìn)行循環(huán)再生,整個(gè)處理過(guò)程既不帶入其它外來(lái)物質(zhì),也沒(méi)有產(chǎn)生有害雜質(zhì),更不會(huì)破壞溶液成分,并很好地解決了所有再生循環(huán)蝕刻液長(zhǎng)期運(yùn)行中面臨的蝕刻槽內(nèi)雜質(zhì)累積之技術(shù)難題,循環(huán)再生的蝕刻液性能可以與新配子液相媲美,特別適用于高精度PCB板制作(如線寬線距4mil×4mil,3mil×3mil)
   2、IEM-EC技術(shù)不僅不會(huì)帶入有機(jī)物(如煤油、磺化煤油等有機(jī)溶劑,以及八羥基喹啉、P205等銅萃取劑等等),而且是*的在線循環(huán),所以循環(huán)使用壽命長(zhǎng),循環(huán)再生使用次數(shù)可達(dá)一年以上。
   3、整個(gè)再生過(guò)程無(wú)廢液廢渣排放,操作環(huán)境的各項(xiàng)指標(biāo)符合安全指標(biāo)和環(huán)保要求;
   4、系統(tǒng)穩(wěn)定性強(qiáng),設(shè)備操作簡(jiǎn)便、容易維護(hù)。
    采用微機(jī)自動(dòng)控制,使設(shè)備運(yùn)行更加可靠,運(yùn)行成本低。
   5、工藝*,技術(shù)路線*。

一、與溶劑萃取技術(shù)比較:
1、流程圖比較

從上述工藝可以看出:“A---含銅的萃取劑” “B---蝕刻子液”皆從萃取劑與廢蝕刻液的混合物中沉淀分離,由于液體之間有互溶性,并且分濾不清,所以蝕刻子液中含有萃取油(重油)及可溶性雜質(zhì);而在A中加硫酸進(jìn)行反萃??;硫酸根離子與萃取劑中的銅離子反應(yīng),生成硫酸銅,再進(jìn)行分濾,“C---萃取劑”中會(huì)殘留硫酸和硫酸銅;“C---萃取劑”再循環(huán)與蝕刻廢液混合,進(jìn)行沉淀分濾,造成“B---蝕刻子液”中的成份非常復(fù)雜,即含有萃取油、萃取劑及硫酸根,影響蝕刻速度與質(zhì)量。經(jīng)多次循環(huán)后,再生液根本無(wú)法使用。

為解決此問(wèn),有的廠家只提取銅,根本不循環(huán);有的廠家采用部分循環(huán),即排放一部門溶液,調(diào)配部分新液混合,以釋稀再生液中的重油與可溶性雜質(zhì);有的廠家循環(huán)3--5次,即全部排掉換新液。無(wú)論哪一種方式,都會(huì)浪費(fèi)資源并造成二次污染。而且,溶劑萃取無(wú)法提取一級(jí)洗滌水中的銅。以每天產(chǎn)生一噸廢液的PCB廠為例,“萃取法”與我公司的“膜分離技術(shù)”相比,每月少提取銅約800公斤,每年少提取銅約10噸,客戶年經(jīng)濟(jì)損失約40萬(wàn)。

2、膜分離技術(shù)與溶劑萃取技術(shù)比較表
我司蝕刻液循環(huán)再生的“膜分離” 技術(shù)與其他公司“溶劑萃取”技術(shù)的對(duì)比

膜分離

溶劑萃取

1、技術(shù)知識(shí)產(chǎn)權(quán)

明晰、長(zhǎng)沙綠銥*
*立項(xiàng)的*項(xiàng)目
*預(yù)算內(nèi)投資國(guó)債項(xiàng)目

  不明晰、國(guó)外公司已保護(hù);對(duì)外有侵權(quán)嫌疑,對(duì)內(nèi)眾多商家彼此模仿;同時(shí)并未掌握真正技術(shù)。而且此技術(shù)由于達(dá)不到現(xiàn)代環(huán)保要求,國(guó)外也很少使用。

2、*

無(wú)

3、技術(shù)可靠性

強(qiáng)

4、產(chǎn)品適應(yīng)性

強(qiáng)--酸、堿性蝕刻液皆可

弱--僅堿性蝕刻液

5、客戶PCB品質(zhì)原因

中板皆可蝕刻液不被污染

僅能對(duì)中低檔板企業(yè);蝕刻液被殘留的萃取劑污染

6、技術(shù)內(nèi)涵

多項(xiàng):1)蝕刻液(精細(xì)化學(xué)品配方)
2)蝕刻液中銅選擇性分離
3)循環(huán)再生型蝕刻液品質(zhì)管理
4)機(jī)電一體化

單項(xiàng)(銅沉淀、硫酸銅結(jié)晶)

7、一、二級(jí)廢水處理

不行

8、運(yùn)行成本穩(wěn)定性

穩(wěn)定

不穩(wěn)定--前期較低、后期不斷上漲

9、二次污染

無(wú)


萃取劑須定時(shí)報(bào)廢,產(chǎn)出含銅的有機(jī)物,既為重金屬危險(xiǎn)廢物,又易燃,并且在萃取過(guò)程中有有毒氣體氯氣排放及部分廢蝕刻液排放

11、銅回收形式

銅板及銅粉(價(jià)值更高)任選

僅銅板,形態(tài)較好

12、蝕刻液循環(huán)壽命

長(zhǎng)達(dá)12月以上

不確定(分批邊循環(huán)邊排)或3-5天更換

13、循環(huán)過(guò)程中

不外排含銅廢液

邊循環(huán)邊排

14、占地大小

15、工藝流程工藝簡(jiǎn)單,流程穩(wěn)定工藝及流程繁雜
16、設(shè)備操作簡(jiǎn)單復(fù)雜
17、運(yùn)行故障無(wú)溶液結(jié)晶,堵塞管道,子液中含有萃取油(重油),不能蝕刻有稍高精度要求的PCB板
18、PCB企業(yè)商務(wù)隱患無(wú)有:1、環(huán)保隱患;2、不能蝕刻稍高精度的PCB板,3、萃取劑的價(jià)格和質(zhì)量無(wú)保證
二、與“廢蝕刻液生產(chǎn)硫酸銅”加工技術(shù)的比較
其他公司“廢蝕刻液生產(chǎn)硫酸銅”加工技術(shù)與我公司 “廢蝕刻液循環(huán)再生”技術(shù)對(duì)比分析表

比較項(xiàng)目

廢蝕刻液生產(chǎn)硫酸銅

廢蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)

1、經(jīng)營(yíng)理念

傳統(tǒng)“開環(huán)式”經(jīng)濟(jì)觀念
經(jīng)濟(jì)效益

“閉環(huán)式”循環(huán)經(jīng)濟(jì)觀念
社會(huì)效益 + 環(huán)境效益+經(jīng)濟(jì)效益

2、產(chǎn)品定位

傳統(tǒng)(化工無(wú)機(jī)鹽)產(chǎn)品

可循環(huán)再生型新產(chǎn)品

3、產(chǎn)業(yè)發(fā)展利弊

污染源轉(zhuǎn)移、擴(kuò)散

行業(yè)及區(qū)域性清潔生產(chǎn)

4、產(chǎn)品類型

硫酸銅

循環(huán)再生型蝕刻液
金屬銅材料(銅板、銅粉)

5、技術(shù)支撐

簡(jiǎn)單無(wú)機(jī)化工

復(fù)合技術(shù)
(膜分離+有色冶金+精細(xì)化學(xué)品)

6、技術(shù)內(nèi)涵

單項(xiàng):(銅沉淀、硫酸銅結(jié)晶)

多項(xiàng):1)蝕刻液(精細(xì)化學(xué)品配方)
2)蝕刻液中銅選擇性分離
3)循環(huán)再生型蝕刻液品質(zhì)管理
4)機(jī)電一體化

7、技術(shù)創(chuàng)新性

近年無(wú)創(chuàng)新
20年前相關(guān)技術(shù)已成熟、固化

技術(shù)集成創(chuàng)新
2004年銅選擇性分離成熟、
蝕刻液配方技術(shù)仍在創(chuàng)新
智能化一體機(jī)仍待創(chuàng)新

8、國(guó)內(nèi)外相關(guān)技術(shù)

國(guó)內(nèi):正在被淘汰
國(guó)外:有

國(guó)內(nèi):長(zhǎng)沙綠銥環(huán)??萍加邢薰?
國(guó)外:無(wú)

9、資源回收/回用率

銅回收率

95%

100%

其它化學(xué)品回用

0

100%

10、廢物排放量(公斤/噸銅產(chǎn)品)

2--6

0

氯化銨

350--400

0

75--100

0

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